ASEPS: Simulator des Durchbruchverhaltens von Leistungstransistoren

Kurzbeschreibung

ASEPS ist ein Fortran-basierter Simulator zur Ermittlung des Durchbruchverhaltens von Leistungstransistoren. Zu diesem Zweck ist es notwendig, die elektro-magnetischen Felder zu ermitteln, welche sich im Halbleiterelement aufbauen. Dazu müssen die Maxwell'schen Gleichungen numerisch gelöst werden.

Eine exakte Lösung der Maxwell'schen Gleichungen ist sehr rechen-intensiv. Falls wir aber nur daran interessiert sind, das Verhalten der Dioden im sperrenden Bereich zu analysieren, bieten sich Vereinfachungen der Maxwell'schen Gleichungen an, wodurch die Rechengeschwindigkeit ohne merkliche Beeinträchtigung der Rechengenauigkeit um ein vielfaches (ca. um einen Faktor 100) reduziert werden kann.

Diese Vereinfachungen wurden in ASEPS realisiert, damit auch grössere Strukturen, z.B. mehrere Transistoren mit gemeinsamem Substrat, rechen-effizient simuliert werden können.

Wenn Leistungstransistoren ionisierender Strahlung ausgesetzt werden, wie z.B. bei langen Weltraumflügen oder unter dem Einfluss des elektromagnetischen Pulses (EMP) nach dem Zünden einer Atombombe in der Atmosphäre, werden diese zerstört, da sich unzulässig grosse elektromagnetische Felder aufbauen können. Um diesem Problem vorzubeugen, ist es nötig, die Transistoren gegen diese Strahlung zu schützen, indem sie in einer Abschluss-Struktur eingebettet werden. ASEPS eignet sich sehr gut zur Simulation solcher Abschluss-Strukturen.

Mit zunehmender Leistungskraft moderner Rechensysteme wurden die Einsparungen, die ASEPS ermöglichte, weniger wichtig. Es wurde möglich, grössere Strukturen auch mit allgemeineren Halbleitersimulatoren, wie z.B. den Pisces Simulator von Stanford University, in vernünftiger Rechenzeit durchzuführen. Aus diesem Grunde wurde die Arbeit an ASEPS in den frühen 90-er Jahren eingestellt.


Historische Entwicklung


Wichtigste Publikationen

  1. Wu, Q.M., and F.E. Cellier (1986), Simulation of High-Voltage Bipolar Devices in the Neighborhood of Breakdown, Mathematics and Computers in Simulation, 28, pp.271-284.

  2. Wu, Q.M., C.M. Yen, and F.E. Cellier (1989), Analysis of Breakdown Phenomena in High-Voltage Bipolar Devices, Transactions of SCS, 6(1), pp.43-60.

  3. Davis, K.R., R.D. Schrimpf, F.E. Cellier, K.F. Galloway, D.I. Burton, and C.F. Wheatley, Jr. (1989), The Effects of Ionizing Radiation on Power-MOSFET Termination Structures, IEEE Trans. Nuclear Science, 36(6), pp.2104-2109.

  4. Kosier, S.L., R.D. Schrimpf, F.E. Cellier, and K.F. Galloway (1990), The Effects of Ionizing Radiation on the Breakdown Voltage of P-Channel Power MOSFETs, IEEE Trans. Nuclear Science, 37(6), pp.2076-2082.

  5. Kosier, S.L., R.D. Schrimpf, K.F. Galloway, and F.E. Cellier (1991), Predicting Worst-Case Charge Buildup in Power-Device Field Oxides, IEEE Trans. Nuclear Science, 38(6), pp.1383-1390.

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Modifiziert: 22. Januar 2006 -- © François Cellier